抗蓝光镜片的制作方法技术

本发明专利技术涉及光学镜片的制作方法，尤其涉及抗蓝光镜片的制作方法。本发明专利技术的抗蓝光镜片的制作方法，在镜片基片的一个表面依次进行真空蒸镀，由内向外共三层，分别是：第一层的氧化硅层，第二层的五氧化三钛层，第三层的二氧化硅层。具体的：第一层的氧化硅层的镀膜作业是设定真空镀膜机以时间控制方式进行镀膜；第二层的五氧化三钛层的镀膜作业是设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜；第三层的二氧化硅层的镀膜作业是设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜。本发明专利技术采用如上技术方案，可以制出衰减380nm~500nm波长光（主要是蓝光部分）70%左右（70%±3%）的抗蓝光镜片，可在一些场合应用，具有一定商业用途。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及光学镜片的制作方法，尤其涉及。本专利技术的，在镜片基片的一个表面依次进行真空蒸镀，由内向外共三层，分别是：第一层的氧化硅层，第二层的五氧化三钛层，第三层的二氧化硅层。具体的：第一层的氧化硅层的镀膜作业是设定真空镀膜机以时间控制方式进行镀膜；第二层的五氧化三钛层的镀膜作业是设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜；第三层的二氧化硅层的镀膜作业是设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜。本专利技术采用如上技术方案，可以制出衰减380nm~500nm波长光（主要是蓝光部分）70%左右（70%±3%）的抗蓝光镜片，可在一些场合应用，具有一定商业用途。【专利说明】
本专利技术涉及光学镜片的制作方法，尤其涉及。
技术介绍
蓝光容易对眼睛造成伤害，尤其会加速视网膜黄斑区的细胞氧化，如果黄斑区长期接触蓝光，甚至会损伤视觉细胞，会增加年老时眼睛出现黄斑病变的风险，这种现象称之为蓝光伤害(blue light hazard)。为了避免蓝光伤害，具有部分滤除蓝光波段的光学镜片被专利技术，此光学镜片又称为抗蓝光镜片。现有的抗蓝光镜片有利用在镜片材料中加入色粉制成的抗蓝光镜片，如CN101813832A专利所揭示的抗蓝光茶色太阳镜片，还有利用在镜片表层镀膜制成的抗蓝光镜片，如CN1564052专利所揭示的防蓝光伤害保健眼镜片。然而现有技术中缺少衰减380nnT500nm波长光(主要是蓝光部分)70%左右(70%± 3%)的抗蓝光镜片，衰减蓝光70%的抗蓝光镜片可在一些场合应用，具有一定商业用途。
技术实现思路
本专利技术的目的是提出一种衰减380nnT500nm波长光(主要是蓝光部分)70%左右(70%±3%)的。本专利技术具体采用如下技术方案实现:一种，在镜片基片的一个表面依次进行真空蒸镀，由内向外共三层，分别是:第一层的氧化娃层，第二层的五氧化三钛层，第三层的二氧化娃层。具体的:第一层的氧化硅层的镀膜作业具体是:设定真空镀膜机以时间控制方式进行镀膜，设定设备作业条件是:时长设为30秒，抵抗加热的电流设为125安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0X KT4Torr ； 第二层的五氧化三钛层的镀膜作业具体是:设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是:反射波长设为420纳米，监控膜厚设为0.25QW0T,电子枪的电流设为409安培，充氧量设为28SCCm，炉腔内真空系数设为0.8 X KT4Torr ； 第三层的二氧化硅层的镀膜作业具体是:设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是:反射波长设为420纳米，监控膜厚设为1.90QW0T,电子枪的电流设为150安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0X10_4Torr。优选的，该真空镀膜机是祥洲真空机器(股份)公司、龙翩实业有限公司生产的型号为LP-1200EBA的真空镀膜机。优选的，第一层的氧化硅层的蒸镀采用抵抗加热法实现，第二层的五氧化三钛层和第三层的二氧化硅层的蒸镀采用采用EB电子枪法实现。本专利技术采用如上技术方案，可以制出衰减380nnT500nm波长光(主要是蓝光部分)70%左右(70%±3%)的抗蓝光镜片,可在一些场合应用，具有一定商业用途。【专利附图】【附图说明】图1是本专利技术的抗蓝光镜片的剖视图。图2是第一实施例的抗蓝光镜片的认证报告表。图3是第一实施例的抗蓝光镜片的透射光谱图。图4是第一实施例的抗蓝光镜片的光谱数据表。图5是第二实施例的抗蓝光镜片的认证报告表。图6是第二实施例的抗蓝光镜片的透射光谱图。图7是第二实施例的抗蓝光镜片的光谱数据表。【具体实施方式】本专利技术的抗蓝光镜片是采用真空镀膜机来对镜片基片进行蒸镀多层膜层，从而制出衰减380nnT500nm波长光(主要是蓝光部分)70%左右(70%±3%)的抗蓝光镜片。该镜片基片可采用玻璃材质的镜片或者是高分子材料的镜片(如聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA、尼龙PA等等)。现结合附图和一个【具体实施方式】对本专利技术进一步说明。实施例的真空镀膜机采用祥洲真空机器(股份)公司、龙翩实业有限公司生产的型号为LP-1200EBA的真空镀膜机来对镜片基片进行蒸镀作业。该实施例是在镜片基片的一个表面依次进行真空蒸镀，由内向外共三层，分别是:第一层的氧化硅(SiO)层，第二层的五氧化三钛(Ti3O5)层，第三层的二氧化硅(SiO2)层。其中，第一层的氧化硅层主要起增加膜层附着力作用，第二层五氧化三钛层和第三层的二氧化硅层主要起到控制过滤波长的效果，是镜片镀膜的核心技术，作业时需要严格监控膜层厚度。镜片的真空镀膜作业为业内熟知的镀膜技术，下面仅对不同部分进行详细说明，未说明部分均是采用业内的通常技术实现，可以参考已有的相关资料，于此不再进行重复性说明。第一层(底层)的氧化硅(SiO)层的镀膜作业具体是:设定该LP-1200EBA真空镀膜机以时间控制方式(对应该设备使用说明书中的方法x2)进行镀膜，设定设备作业条件是:时长设为30秒(S)，抵抗加热的电流设为125安培(A)，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0X 10_4Torr。从而该镜片基片所镀的第一层的氧化硅层的物理膜厚被控制为在0.06、.1纳米(nm)之间。该第一层的氧化硅层的蒸镀采用抵抗加热法实现，是一种生产制造成本较低且通用的制作工序，十分适用于对所监控的膜厚的要求不高的情况下使用。第二层的五氧化三钛(Ti3O5)层的镀膜作业具体是:设定该LP-1200EBA真空镀膜机以光学膜厚监控方式(对应该设备使用说明书中的方法Xl或x2)进行镀膜，设定设备作业条件是:反射波长设为420纳米(nm)，监控膜厚设为0.25QW0T (1/4波长的厚度为1QW0T),电子枪的电流设为409安培(A),充氧量设为28sccm (standard-state cubiccentimeter per minute,标况毫升每分),炉腔内真空系数设为0.8 X l(T4Torr。从而该镜片基片所镀的第二层的五氧化三钛层的物理膜厚被严格监控为26.25纳米(nm)。该第二层的五氧化三钛层的蒸镀采用EB电子枪法实现，是一种严格监控膜厚的真空镀膜制作工序，适用于对所监控的膜厚的要求较高的情况下使用。第三层的二氧化硅(SiO2)层的镀膜作业具体是:设定该LP-1200EBA真空镀膜机以光学膜厚监控方式(对应该设备使用说明书中的方法Xl或X2)进行镀膜，设定设备作业条件是:反射波长设为420纳米(nm)，监控膜厚设为1.90QW0T (1/4波长的厚度为1QWOT)，电子枪的电流设为150安培(A),充氧量设为O,炉腔内真空系数设为1.0 X 104Torr。从而该镜片基片所镀的第三层的二氧化硅层的物理膜厚被严格监控为199.5纳米(nm)。该第三层的二氧化硅层的蒸镀采用EB电子枪法实现，是一种严格监控膜厚的真空镀膜制作工序，适用于对所监控的膜厚的要求较高的情况下使用。经过上述真空蒸镀作业可以制出衰减380nnT500nm波长光(主要是蓝光部分)70%左右(70%±3%)的抗蓝光镜片，参阅图1所示，该蓝光抗蓝光镜片包括:一镜片基片10及依次附着于该镜片基片10 —表面的复合膜层20,该复合膜层20由内向外依次包括:第一层的氧化硅本文档来自技高网...

【技术保护点】
抗蓝光镜片的制作方法，在镜片基片的一个表面依次进行真空蒸镀，由内向外共三层，分别是：第一层的氧化硅层，第二层的五氧化三钛层，第三层的二氧化硅层；具体的，第一层的氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以时间控制方式进行镀膜，设定设备作业条件是：时长设为30秒，抵抗加热的电流设为125安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10?4Torr；第二层的五氧化三钛层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为420纳米，监控膜厚设为0.25QWOT，电子枪的电流设为409安培，充氧量设为28sccm，炉腔内真空系数设为0.8×10?4Torr；第三层的二氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为420纳米，监控膜厚设为1.90QWOT，电子枪的电流设为150安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10?4Torr。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴天恕，简志仰，陈坤煌，
申请(专利权)人：杏晖光学厦门有限公司，
类型：发明
国别省市：