化妆料及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种化妆料及其制造方法，该化妆料对UV-A和UV-B具有充分的遮蔽效果，即使配合在化妆料中也不会着色，并且在涂抹于肌肤时不会不自然地泛白。该化妆料中的InTaO4的至少一部分被Sc、Ti、V、Cr、Mn、Co、Cu、Ga、Ge、As、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、Sn、Sb、Hf、W、Re、Os、Ir、Pt、Au和Hg中的至少一种元素取代。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：江口晴树，渕上健儿，
申请(专利权)人：株式会社IHI，
类型：
国别省市：