【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种方法，包括：a)提供包括聚合的负性光刻胶的基体；和b)将包含聚合的负性光刻胶的基体与含有氢氧化铵的水基碱性溶液接触，从基体上除去聚合的负性光刻胶。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：P·J·奇可洛，B·D·阿莫斯，S·麦卡蒙，
申请(专利权)人：罗门哈斯电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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