一种用于石英陶瓷坩埚的高结合强度氮化硅涂层制造技术

本发明专利技术公开了一种用于石英陶瓷坩埚的高强度氮化硅涂层，其原料组分及其重量百分比含量为：氮化硅粉末86～87.5%，氧化硼粉、硼酸粉或者硼砂粉12.5～14%。本发明专利技术通过在氮化硅涂层中引入适量的氧化硼，使其在氮化硅涂层高温处理过程中与石英坩埚表面发生反应，生成粘结相硼硅酸盐，增强氮化硅涂层与石英陶瓷坩埚结合强度，消除了铸锭多晶硅晶体的粘埚和裂锭现象；对于氮化硅涂层的研究有着深远而广泛的意义。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于石英陶瓷坩埚的高结合强度氮化硅涂层，其原料组分及其重量百分比含量为：氮化硅粉86～87.5%，氧化硼粉、硼酸粉或者硼砂粉12.5～14%；该用于石英陶瓷坩埚的高结合强度氮化硅涂层的制备方法，具有如下步骤：（1）按照原料组分及其重量百分比含量：氮化硅粉86～87.5%，氧化硼粉、硼酸粉或者硼砂粉12.5～14%进行配料，以去离子水作分散介质，混合后制备成浆料，去离子水的重量为上述原料总重量的25～186%；（2）将步骤（1）的浆料通过喷涂、刷涂或流延的方法粘附在石英陶瓷坩埚内壁，初始膜厚为1～2000微米；（3）将步骤（2）内壁粘附有浆料的石英陶瓷坩埚置于高温炉中进行热处理，热处理温度为1000℃～1300℃，处理时间为0.5～10小时。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杜海燕，巩晓晓，张晓艳，胡小侠，张顶印，
申请(专利权)人：天津大学，
类型：发明
国别省市：