涂层以及用于涂层的方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及将涂层施涂到基材（20）上的方法和装置，其中，通过引导工作气体（3）穿过激发区来产生低温等离子体的等离子体流（2）。该等离子体流对准基材（20）并且在等离子体流（2）中供给小片状颗粒（10），所述小片状颗粒具有10nm至50000nm的平均厚度（H）和在10至2000取值范围内的形状系数（F）。供给等离子体流（2）利用载气（14）来进行。等离子体流（2）通过利用交流电压或脉冲直流电压激发该工作气体（3）来产生。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：米夏埃尔·比斯格斯，C·沃尔夫鲁姆，M·格莱布，马库斯·鲁普雷希特，
申请(专利权)人：莱茵豪森等离子有限公司，埃卡特有限公司，
类型：
国别省市：