【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种掩膜版，包括：透明基板；位于所述透明基板上的图形化遮光层，所述图形化遮光层具有露出透明基板的开口；其特征在于，所述开口至少分为第一开口单元和第二开口单元，所述掩膜版上对应所述第一开口单元的区域为第一透光区域、对应所述第二开口单元的区域为第二透光区域，所述第一开口单元底部露出透明基板，所述第二透光区域的透光率小于所述透明基板的透光率。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：朱桂林，高国华，
申请(专利权)人：南通富士通微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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