【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上形成包括扫描线和栅极的图形；在所述包括扫描线和栅极的图形的上方形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层的上方形成半导体薄膜、掺杂半导体薄膜和金属薄膜，通过构图工艺形成包括有源层、数据线和隔垫物基材的图形；在所述包括有源层、数据线和隔垫物基材的图形的上方形成钝化层；利用干法刻蚀法，在隔垫物基材的上方、需要设置隔垫物的位置对钝化层进行刻蚀，形成过孔，通过过孔中暴露的隔垫物基材与刻蚀过程中使用的刻蚀设备反应腔内的刻蚀气体形成的电场，牵引反应腔内刻蚀过程中产生的组分沉积到所述隔垫物基材表面，生成隔垫物。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：郭建，刘建涛，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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