植物栽培种植基质及应用该种植基质恢复边坡植被的方法技术

本发明专利技术公开了一种植物栽培种植基质及应用该种植基质恢复边坡植被的方法，所述种植基质由以下组分按重量百分比组成：有机基质土：96-99.2%；土壤改良剂：0.1-1.5%；土壤PH调节剂：0.2-1.5%；土壤保水剂：0.2-1%；植物抗蒸腾剂：0-0.1%。所述恢复边坡植被的方法包括：a、将种植基质混合均匀后，种植藤本植物；b、在边坡的平台上修建种植槽；c、当步骤a中的藤本植物长到1.2-1.5米后，将藤本植物移植至步骤b中的种植槽内，并以所述种质基质作为土壤。本发明专利技术提供的植物栽培种植基质具有保水、保肥、透气等性能优良的特点，使植物能长期具有养分，不需要护养；应用该种植基质恢复边坡植被，能实现长期护坡的目的，且植被覆盖率高。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种植物栽培种植基质，其特征在于，所述种植基质由以下组分按重量百分比组成：有机基质土：96?99.2%；土壤改良剂：0.1?1.5%；土壤PH调节剂：0.2?1.5%；土壤保水剂：0.2?1%；植物抗蒸腾剂：0?0.1%。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄弘，
申请(专利权)人：黄弘，
类型：发明
国别省市：