【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于基板清洗的调整装置，其特征在于，所述调整装置包括：?第一调整件，包括基体和设置于所述基体上的凸块；?第二调整件，包括本体，设置于所述本体上的第一基准块和置于所述本体上并与所述第一基准块相对的第二基准块，其中，所述第一基准块与第二基准块之间的距离可以调节。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张贺，殷楷，贾元成，刘志骞，王雷，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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