离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃及其制造方法技术

技术编号:9352818 阅读:129 留言:0更新日期:2013-11-20 19:50
本发明专利技术公开了一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃,包括玻璃基片,玻璃基片上设有依次设有氮化硅SiNx、氧化锌铝ZnALOx、金属镍铬NiCr、金属银Ag、金属镍铬NiCr、氧化锌铝ZnAlOx、氮化硅SiNx;离线高透净色低辐射镀膜玻璃的制备方法为:在双端离线高真空磁控溅射镀膜设备中,使其基础真空达到10??Pa,线速度为3米/分钟时,在玻璃上依次溅射氮化硅SiNx、氧化锌铝ZnAlOx、金属镍铬NiCr、金属银Ag、金属镍铬NiCr、氧化锌铝ZnAlOx、氮化硅SiNx。本发明专利技术具有在实现膜层的低辐射率和低传热性能的基础上,能够同时实现膜层对自然光的高透过率82.5-83%的优点。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种可钢离线高透净色低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片,其特征在于:所述玻璃基片上依次设有第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx、第一金属镍铬NiCr、金属银Ag、第二金属镍铬NiCr、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx,所述玻璃基片的厚度为3mm~15mm,所述第一氮化硅SiNx的厚度为37nm~45nm,所述第一氧化锌铝ZnAlOx的厚度为15nm~20nm,所述第一金属镍铬NiCr的厚度为1nm~5nm,所述金属银Ag的厚度为10nm~15nm,所述第二金属镍铬NiCr的厚度为1nm~5nm,所述第二氧化锌铝ZnAlOx的厚度为15nm~20nm,所述第二氮化硅SiNx的厚度为45nm~50nm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:顾海波
申请(专利权)人:江苏奥蓝工程玻璃有限公司
类型:发明
国别省市:

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