多温区温度控制系统以及反应腔室技术方案

本实用新型专利技术涉及一种多温区温度控制系统以及反应腔室，所述控制系统包括：反馈信号获得单元；矫正处理单元及控制信号形成单元，本实用新型专利技术所述多温区温度控制系统能够避免采用一个控制信号形成单元的控制方式导致人为产生的系统升温特性的改变对整个加热过程的影响，从而避免受矫正因子和自动控制参数相互影响，降低调节难度；且同时能够保证多个加热区的温度一起上升，减少了加热区之间存在相互热干扰，使温度能够快速收敛达到稳定状态；此外，减少了反馈信号获得单元的数目，进而简化了温度控制系统的结构。本实用新型专利技术还包括一种包括上述多温区温度控制系统的应用于半导体设备的反应腔室。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种多温区温度控制系统，用于控制多个加热区的加热温度，其特征在于，包括：用于分别对应加热所述多个加热区的多个加热单元；用于从一个加热区获得反馈信号的反馈信号获得单元；用于基于所述反馈信号获得多个矫正信号的矫正处理单元，每一矫正信号对应于每一加热区；基于每一加热区的矫正信号与目标信号比较获得每一加热区的比较信号并基于每一加热区的比较信号形成控制信号的控制信号形成单元，所述控制信号用于控制所述加热单元对所述加热区的加热，所述反馈信号为所述加热区的温度信号或红外辐射信号。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：宁海涛，
申请(专利权)人：光垒光电科技上海有限公司，
类型：实用新型
国别省市：