溅射镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提出了一种溅射镀膜装置，包括：真空室，真空室底部敞口设置；底板，底板设于真空室底部敞口下方，且底板形状与真空室底部敞口形状相适应；夹具旋转机构，夹具旋转机构的转轴竖直贯穿底板中央，转轴的底部和顶部分别连接有动力装置和支撑盘，支撑盘水平设置且边缘竖直设有至少一个夹具支撑架，夹具支撑架上固定有被镀工件夹具；至少一个靶体，靶体与夹具支撑架平行设置，靶体内腔装有磁铁，靶体面对夹具支撑架的一侧设有靶材；水冷装置，水冷装置通过管道与靶体一端连通。本实用新型专利技术涉及镀膜技术领域，解决了现有技术中镀膜材料一次性利用率低、镀膜牢固度不佳、镀膜时间长、被镀元件受力不均匀、镀膜沉积均匀性不佳的问题。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
溅射镀膜装置，其特征在于，包括：?真空室，所述真空室底部敞口设置；?底板，所述底板设于所述真空室底部敞口下方，且所述底板形状与所述真空室底部敞口形状相适应；?夹具旋转机构，所述夹具旋转机构的转轴竖直贯穿所述底板中央，所述转轴的底部和顶部分别连接有动力装置和支撑盘，所述支撑盘水平设置且边缘竖直设有至少一个夹具支撑架，所述夹具支撑架上固定有被镀工件夹具；?至少一个靶体，所述靶体与所述夹具支撑架平行设置，所述靶体内腔装有磁铁，所述靶体面对所述夹具支撑架的一侧设有靶材；?水冷装置，所述水冷装置通过管道与所述靶体一端连通。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈罡，闫志博，
申请(专利权)人：烟台金瑞石英晶体有限公司，
类型：实用新型
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