【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种衬底处理设备，包括：处理室，具有衬底处理空间；加热外壳，具有发射辐射能的加热灯和反射从所述加热灯发射的辐射能的反射块；以及窗口，维持所述处理室与所述加热外壳之间的密封且将所述辐射能透射到衬底。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：林一焕，沈长禹，金哲洙，崔乘爱，
申请(专利权)人：AP系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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