【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种钝化层结构,其特征在于,所述钝化层结构包括:第一钝化层;形成在第一钝化层上的第二钝化层;形成在第二钝化层上的氮化铝层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:张海洋,张城龙,
申请(专利权)人:中芯国际集成电路制造上海有限公司,
类型:发明
国别省市:
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