钝化层结构及其形成方法、刻蚀方法技术

技术编号：9296689 阅读：242 留言：0更新日期：2013-10-31 00:59

一种钝化层结构及其形成方法和刻蚀方法，所述钝化层结构包括：第一钝化层；形成在第一钝化层的第二钝化层；形成在第二钝化层的氮化铝层。所述钝化层结构的形成方法包括：形成第一钝化层；在第一钝化层上形成第二钝化层；在第二钝化层上形成氮化铝层。所述钝化层结构的刻蚀方法包括：在所述氮化铝层上形成光刻胶；曝光显影，使得所述光刻胶形成光刻胶图案；利用所述光刻胶图案刻蚀所述氮化铝层；利用所述氮化铝层作为掩模进行第一刻蚀，去除第一钝化层；进行第二刻蚀，去除第二钝化层。本发明专利技术能够避免原有的钝化层结构中在刻蚀时，由于光刻胶较薄产生的不必要刻蚀和光刻胶较厚产生的光刻胶残留物难以去除的现象，并优化钝化层的性能。