【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法，其特征在于，将作为重均分子量为10000～50000的聚合物的表面活性剂成分(H)稀释至2.5～10质量％后进行过滤，使过滤后的该表面活性剂成分(H)、感光性基材成分(A)、颜料成分(G)和有机溶剂成分(S)分散。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：中绪卓，盐田大，石川达郎，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
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