【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种采用镀膜技术制作光栅的方法,以现有光栅作为基底光栅,然后通过镀膜沉积技术在基底光栅上进行镀膜,其特征在于:通过控制膜料沉积方向与基底光栅之间的角度在基底光栅的光栅面上形成各种光栅槽结构的介质膜层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:林磊,黄富泉,周孝莲,代会娜,李广伟,张新汉,
申请(专利权)人:福州高意光学有限公司,
类型:发明
国别省市:
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