一种采用镀膜技术制作光栅的方法技术

技术编号:9295046 阅读:172 留言:0更新日期:2013-10-30 23:49
本发明专利技术涉及光栅制作技术领域,公开了一种采用镀膜技术制作光栅的方法,以现有光栅作为基底光栅,然后通过镀膜沉积技术在基底光栅上进行镀膜;镀膜过程中,通过控制膜料沉积方向与基底光栅之间的角度在基底光栅的光栅面上形成各种光栅槽结构的介质膜层。本发明专利技术通过控制膜料沉积方向与基底光栅之间的角度在基底光栅的光栅面上形成各种光栅槽结构的介质膜层,避免了一些硬质膜系材料的刻蚀,同时可以实现光栅膜层结构的精确控制,提供更多膜层结构的可选方案,便于光栅膜层结构的设计、调整光栅占空比、提高光栅衍射效率等,而且提高了光栅制作效率。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种采用镀膜技术制作光栅的方法,以现有光栅作为基底光栅,然后通过镀膜沉积技术在基底光栅上进行镀膜,其特征在于:通过控制膜料沉积方向与基底光栅之间的角度在基底光栅的光栅面上形成各种光栅槽结构的介质膜层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:林磊黄富泉周孝莲代会娜李广伟张新汉
申请(专利权)人:福州高意光学有限公司
类型:发明
国别省市:

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