1μm带宽光隔离器制造技术

本发明专利技术提供一种小型化的1μm带宽光隔离器，它适合作为激光加工等用途中使用的大功率激光器，譬如光纤激光器中的光隔离器。该1μm带宽光隔离器包括：法拉第转子，其在波长1.06μm下的费尔德常数为0.27min/(Oe*cm)以上；第1中空磁铁，被配置在上述法拉第转子的外周；以及第2及第3中空磁铁单元，在光轴上配置成将第1中空磁铁夹在中间。其特征在于：第2及第3中空磁铁单元，由沿与光轴方向成90度角的方向均等分割而得到的两个以上的磁铁构成；施加到所述法拉第转子上的磁通密度B(Oe)在下式(1)的范围之内；所述法拉第转子所配置的光路长L(cm)在下式(2)的范围之内。0.5×104≤B≤1.5×104??(1)，0.70≤L≤1.10??(2)。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种1μm带宽光隔离器，包括：法拉第转子，其在波长1.06μm下的费尔德常数为0.27min/(Oe·cm)以上；第1中空磁铁，被配置在上述法拉第转子的外周；以及第2及第3中空磁铁单元，在光轴上配置成将第1中空磁铁夹在中间。其特征在于：所述第2及第3中空磁铁单元，由沿与光轴方向成90度角的方向均等分割而得到的两个以上的磁铁构成；施加到所述法拉第转子上的磁通密度B(Oe)在下式(1)的范围之内；所述法拉第转子被配置的光路长L(cm)在下式(2)的范围之内。0.5×104≤B≤1.5×104??(1)0.70≤L≤1.10??????????(2)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：矢作晃，田边敏之，渡边聪明，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：