一种宽光谱偏振无关透射式光栅及其制备方法技术

本发明专利技术属于衍射光栅技术领域，涉及一种宽光谱偏振无关透射式光栅及其制备方法，利用严格耦合波理论进行优化设计的光栅从下至上依次包括石英材料的基底和表面浮雕结构，表面浮雕结构刻蚀在基底上，光栅周期为400-420纳米，刻蚀深度为300-340纳米，占空比为0.18-0.22，入射角度为45°，制备包括光刻胶涂布、全息曝光、显影、离子束刻蚀和清洁处理五个步骤；其结构简单，衍射效率高，制备成本低，适用范围广，在啁啾脉冲放大系统中具有重要的应用价值，对改善宽光谱高衍射效率透射式光栅的性能具有重要的指导作用。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种宽光谱偏振无关透射式光栅，其特征在于利用严格耦合波理论进行优化设计的光栅从下至上依次包括石英材料的基底和表面浮雕结构，表面浮雕结构刻蚀在基底上；光栅周期为400?420纳米，刻蚀深度为300?340纳米，占空比为0.18?0.22，入射角度为45°；水平极化波和垂直极化波的透射0级衍射效率在1000nm?1100nm范围大于98%，水平极化波和垂直极化波的透射0级衍射效率差值小于0.1%。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孔伟金，云茂金，滕冰，刘均海，王淑华，由成龙，李婧晨，
申请(专利权)人：青岛大学，
类型：发明
国别省市：