【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种应用于原子力纳米探针测试的样品制作方法，其特征在于，包括以下步骤：提供一半导体结构，所述半导体结构包括介质层及位于所述介质层中的多个铝层；研磨所述介质层至露出铝层；去掉所述铝层之间部分厚度的介质层；将所述铝层浸入金属活性弱于铝的金属可溶盐溶液中反应，在铝层上形成一层保护膜；去除所述保护膜表面的杂质。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄维，李剑，唐涌耀，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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