一种基于电位调控溶出伏安法的痕量金属离子检测方法技术

本发明专利技术公开了一种基于电位调控溶出伏安法的痕量金属离子检测方法，先用电化学方法将待测液中金属离子富集沉积到惰性工作电极表面；然后通过电位调控，在短时间内施加一适当电位，使干扰离子预先溶出；最后再用伏安法进行待测金属离子的溶出，并记录溶出伏安曲线。与常规的溶出伏安法相比，使用本发明专利技术方法对溶液中痕量金属离子进行检测时，检测限最低可以大幅度降低到1.0×10-9g/L级别。在连续测定时的重现性、稳定性及可靠性也可大大提高。该方法可以应用于海水、地表水、工业废水等水溶液，以及其它非水溶液物质（如食品、电子产品、有机物品等）经过消化后的水溶液中痕量金属离子含量的检测。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种基于电位调控溶出伏安法的痕量金属离子检测方法，其特征在于：先用电化学方法将待测液中金属离子富集沉积到惰性工作电极表面；然后通过电位调控，在短时间内施加一适当电位，使干扰离子预先溶出；最后再用伏安法进行待测金属离子的溶出，并记录溶出伏安曲线。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙建军，郑朝燕，陈珊，
申请(专利权)人：福州大学，
类型：发明
国别省市：