压阻式压力传感器及其制造方法技术

技术编号:9274676 阅读:105 留言:0更新日期:2013-10-24 22:51
本发明专利技术公开了一种压阻式压力传感器及其制造方法。该压阻式压力传感器,由上而下包括:压力传感SOI硅片,其下表面包括第一键合种子金属层;真空键合封接片,其上表面包括第二键合种子金属层,该第二键合种子金属层与压力传感SOI硅片下表面的第一键合种子金属层通过含锡合金焊料共晶真空键合在一起。本发明专利技术中通过银锡共晶真空键合技术,降低了压阻式压力传感器真空键合工艺难度,减小了压阻式压力传感器真空键合成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种压阻式压力传感器,由上而下包括:压力传感SOI硅片,其下表面包括第一键合种子金属层;真空键合封接片,其上表面包括第二键合种子金属层,该第二键合种子金属层与压力传感SOI硅片下表面的第一键合种子金属层通过含锡合金焊料共晶真空键合在一起。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:杜利东赵湛方震肖丽陈继超刘启明
申请(专利权)人:中国科学院电子学研究所
类型:发明
国别省市:

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