一种掺镓晶体硅中金属镓的使用方法技术

技术编号:9272292 阅读:258 留言:0更新日期:2013-10-24 21:26
本发明专利技术公开了一种掺镓晶体硅中金属镓的使用方法,包括镓的前期处理,盛镓硅原料的处理和镓的放置,其中盛镓硅原料的处理包括在至少部分硅原料上打孔,镓的放置为将镓置于硅原料的孔中,且在装料时将装有镓的硅原料设置在总装料高度的2/3以下位置。通过本发明专利技术中的方法,能够有效的减少晶体生长过程中镓的挥发,从而精确控制电阻率范围。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种掺镓晶体硅中金属镓的使用方法,其特征是:包括镓的前期处理,盛镓硅原料的处理和镓的放置,其中盛镓硅原料的处理包括在至少部分硅原料上打孔,镓的放置为将镓置于硅原料的孔中,且在装料时将装有镓的硅原料设置在总装料高度的2/3以下位置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄新明顾海泉明亮张兆玉钟根香
申请(专利权)人:东海晶澳太阳能科技有限公司南京工业大学
类型:发明
国别省市:

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