【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种镀膜的方法，其特征在于，该方法包括：在溶液槽的底部设置下基板，并在其上方设置上基板，将待镀基板吸附于上基板上，且待镀基板面向溶液槽；在溶液槽中加入待镀物的溶液，其中包括用于形成单层分子膜的待镀离子；在下基板和上基板上同时施加外场作用力，使得所述溶液中的待镀离子形成单层分子膜；将所述单层分子膜在待镀基板表面形成薄膜层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：韩帅，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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