【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种转印方法，将作为被转印物的图案或薄膜从担载所述被转印物的担载体转印到基板的规定位置上，其特征在于，该转印方法具有：保持工序，在使在表面形成有第一定位标记的所述基板和在表面上担载所述被转印物以及第二定位标记且具有透光性的所述担载体各自的定位标记形成面彼此相向的状态下，接近保持所述基板和所述担载体，其中，所述第二定位标记是使用与所述被转印物相同的材料来与所述被转印物一起形成的标记，拍摄工序，从所述担载体的与定位标记形成面相反的表面一侧，经由所述担载体在拍摄单元的同一视场内拍摄所述第一定位标记及所述第二定位标记，位置检测工序，基于所拍摄的图像，来检测出所述第一定位标记及所述第二定位标记的位置，定位工序，基于在所述位置检测工序中的检测结果来调整所述基板和所述担载体之间的相对位置，转印工序，使在所述定位工序中调整了相对位置的所述基板和所述担载体相抵接，来将所述担载体表面的所述被转印物及所述第二定位标记转印到所述基板上；形成在所述基板上的所述第一定位标记包括彼此分离配置的多个图形图案，而且，该多个图形图案配置为包围定位标记转印区域，在该定位标记转印区域内能够配置所述第二定位标记并使所述第二定位...
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：谷口和隆，川越理史，
申请(专利权)人：大日本网屏制造株式会社，
类型：发明
国别省市：
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