【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于光学和电子器件的多陶瓷层图案化结构基板，包括金属基体，其特征在于在所述金属基体上依次形成有耐压陶瓷层和高导热陶瓷层；所述耐压陶瓷层和高导热陶瓷层之间具有过渡层，并且通过掩模对所述高导热陶瓷层以及过渡层进行选择性蚀刻形成多个隔离基座；并且在所述隔离基座所述多陶瓷层最上层上形成金属电路层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：高鞠，
申请(专利权)人：苏州晶品光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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