光学玻璃制造技术

本发明专利技术提供一种光学玻璃，其包括：Si4+：0～30%，B3+：10～55%，Li+、Na+以及K+的总量小于5%，Mg2+、Ca2+以及Sr2+的总量小于5%，Ba2+：0～8%，Zn2+：0.1～15%，La3+：10～50%，Gd3+：0～20%，Y3+：0～15%，Yb3+：0～10%，Zr4+：0～20%，Ti4+：0.1～22%，Nb5+：0～20%，Ta5+：0～8%，W6+：0～5%，Ge4+：0～8%，Bi3+：0～10%，Al3+：0～10%，其中，Si4+含量与B3+含量的阳离子比Si4+/B3+小于1.0，换算成氧化物后Nb2O5和Ta2O5的总含量小于14质量%，折射率nd为1.966～2.2，阿贝数νd为25～45。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光学玻璃，其包括：Si4+：?????????0～30%，B3+：??????????10～55%，Li+、Na+以及K+的总量小于5%，Mg2+、Ca2+以及Sr2+的总量小于5%，Ba2+：?????????0～8%，Zn2+：?????????0.1～15%，La3+：?????????10～50%，Gd3+：?????????0～20%，Y3+：??????????0～15%，Yb3+：?????????0～10%，Zr4+：?????????0～20%，Ti4+：?????????0.1～22%，Nb5+：?????????0～20%，Ta5+：?????????0～8%，W6+：??????????0～5%，Ge4+：?????????0～8%，Bi3+：?????????0～10%，Al3+：?????????0～10%，其中，Si4+含量与B3+含量的阳离子比Si4+/B3+小于1.0，换算成氧化物后Nb2O5和Ta2O5的总含量小于14质量%，折射率nd为1.966～2.2，阿贝数νd为25～45。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：根岸智明，邹学禄，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：