【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于抑制光学表面中高频误差的离子束牺牲层加工方法，其特征在于：利用离子束抛光设备，实现所述方法包括步骤如下：步骤S1：检测有中高频误差的待加工的光学元件表面初始面形，获得抛光前的初始面形数据；步骤S2：利用抛光前的面形数据，获取光学元件的表面面形误差值和误差分布，根据光学元件表面面形误差值和误差分布计算所需牺牲层的厚度及胶的浓度；步骤S3：清洁光学元件的表面，利用甩胶机对光学元件的表面进行甩胶，甩胶后采用加热设备对胶层烘干，烘干时间根据胶层厚度设定；步骤S4：检测含有胶层的光学元件表面面形，获得光学元件表面的胶层低频误差；步骤S5：在光学平面基底上甩厚胶，检测含有甩厚胶层光学平面基底的面形分布，在单位时间内，利用离子束抛光设备对光学平面基底的胶层进行单点去除轰击；在与轰击前相同检测参数下检测得到离子束轰击胶层后的面形分布；最后根据前后光学平面基底胶层前后的面形分布，构建出胶层去除函数；步骤S6：根据胶层低频误差和胶层去除函数，利用离子束抛光设备加工去除光学元件的胶层低频误差，使得胶层平滑覆盖光学元件表面的中高频误差，获得胶层平滑覆盖高频误差的光学元件；步骤S7：检测胶层平滑覆盖高频...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：施春燕，张亮，舒良轩，徐清兰，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：
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