槽式湿法装置制造方法及图纸

技术编号:9232263 阅读:146 留言:0更新日期:2013-10-04 22:53
本实用新型专利技术涉及一种槽式湿法装置,包括溶液槽、第一挡板和装载有多张硅片的晶圆装载设备,溶液槽包括至少一个反应槽,每个反应槽均包括一个纯水槽和一个药液槽,且溶液槽的两侧壁上均设置有第一挡板,每张硅片均与该第一档板垂直,相邻两张硅片之间的间隙投影至第一挡板上的位置处均设置有传感设备;通过在反应槽挡板上设置发射器和接受器,从而有效的监控经过溶液槽后的晶圆是否有叠片现象的发生,进而控制机械手臂是否进行抓取硅片,并判断是否进行报警,进一步地克服了由于叠片而造成的晶圆破片的问题,避免了由于破碎的硅片落入溶液槽,需要进行换液才能进行工艺,影响半导体器件制造的流畅性的问题,进而减少了由于叠片而造成的经济损失。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种槽式湿法装置,包括溶液槽、第一挡板和装载有多张硅片的晶圆装载设备,所述溶液槽包括至少一个反应槽,每个所述反应槽均包括一个纯水槽和一个药液槽,且所述溶液槽的两侧壁上均设置有所述第一挡板,每张所述硅片均与该第一档板垂直,其特征在于,相邻的两张硅片之间的间隙投影至所述第一挡板上的位置处均设置有传感设备。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王春伟李阳柏张传民张旭升
申请(专利权)人:上海华力微电子有限公司
类型:实用新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1