一种高曲度弧形阴极磁控溅射靶制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于战机座舱罩镀膜的高曲度弧形阴极磁控溅射靶，包括弧形基架、充气管、永久磁体、辉光放电电极。所述弧形基架是溅射靶的主要部分，它的形状是本实用新型专利技术设计的重点。所述弧形基架的圆弧面用许多片所述永久磁体覆盖。所述弧形基架左侧端面用螺栓固定两条所述充气管，右侧端面用螺栓固定所述辉光放电电极。本实用新型专利技术高曲度弧形阴极磁控溅射靶，形状符合飞机座舱罩曲面外形，能够实现对复合曲面的飞机座舱罩快速、均匀的大面积镀膜，确保其导电率和透光率。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种高曲度弧形阴极磁控溅射靶，其特征在于：包括弧形基架、充气管道、永久磁体、辉光放电电极，所述弧形基架的形状是圆弧形，所述弧形基架圆弧面用许多片所述永久磁铁覆盖，所述弧形基架左侧端面用螺栓固定两条所述充气管，右侧端面用螺栓固定所述辉光放电电极。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：韩裕鲲，
申请(专利权)人：昆山艾诺美航天材料有限公司，
类型：实用新型
国别省市：