一种低温硒化制备CIGS薄膜的方法技术

技术编号:9220764 阅读:145 留言:0更新日期:2013-10-04 15:49
本发明专利技术公开一种低温硒化制备CIGS薄膜的方法,是将铜源、铟源、镓源和硒源与烷基胺反应,得到CIGS纳米晶,CIGS纳米晶与溶剂混合得到CIGS纳米晶墨水,涂膜得到涂膜基板,然后进行蒸汽诱导低温硒化:在密闭环境中独立放置涂膜基板和有机硒的醇溶液,加热至100-400℃,产生的有机硒的醇溶液的蒸汽与涂膜基板充分接触进行硒化反应,得到CIGS薄膜。本发明专利技术采用蒸汽诱导硒化具有硒化效果好、低毒安全和硒化温度较低的优点,便于在低承受温度的柔性基板上镀膜,得到的CIGS薄膜用于制备太阳能电池可提高光电转化效率。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种低温硒化制备CIGS薄膜的方法,包括以下操作步骤:铜源、铟源、镓源与硒源混合后加入烷基胺中反应,得到CIGS纳米晶;将CIGS纳米晶与溶剂混合分散,得到CIGS纳米晶墨水,并将其在基板上涂膜,干燥后得到涂膜基板;将所述涂膜基板与有机硒的醇溶液分开置于密闭环境中,加热至100~400℃,使产生的有机硒的醇溶液的蒸汽与涂膜基板充分接触进行硒化反应,硒化反应时间为1~24h,得到CIGS薄膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:徐东徐永清陈雄
申请(专利权)人:深圳市亚太兴实业有限公司
类型:发明
国别省市:

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