用于EUV光刻的反射镜的基底制造技术

适用于在EUV波长范围内的波长处使用的反射镜的基底(1)，包含基础体(2)，其中所述基础体(2)由沉淀硬化合金，由合金系的金属间相，由颗粒复合材料或由具有在相应合金系统的相图中位于由相稳定线定界的区域中的组成的合金制成。尤其优选的是，所述基础体(2)由沉淀硬化铜或铝合金制成。此外，高反射层(6)设置在EUV反射镜(5)的基底(1)的抛光层(3)上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：C埃克斯坦，H马尔特，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：
国别省市：