具有改善的功率谱密度性能的硅抛光组合物制造技术

本发明专利技术涉及化学机械抛光组合物，其包括二氧化硅、一种或多种四烷基铵盐、一种或多种碳酸氢盐、一种或多种碱金属氢氧化物、一种或多种氨基膦酸、一种或多种速率加速剂化合物、一种或多种多糖、以及水。该抛光组合物使经抛光的基材的表面粗糙度和PSD减小。本发明专利技术进一步涉及使用本文中所述的抛光组合物对基材、尤其是硅基材进行化学机械抛光的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：B雷斯，J克拉克，L琼斯，M怀特，
申请(专利权)人：嘉柏微电子材料股份公司，
类型：
国别省市：