激光器有源区、半导体激光器及其制作方法技术

技术编号:9199816 阅读:161 留言:0更新日期:2013-09-26 03:41
本发明专利技术公开了一种半导体激光器有源区,所述有源区包括一多量子阱结构,所述多量子阱结构中势阱层的材料为InGaAsP,所述量子阱结构中势垒层的材料为InGaAlAs,所述多量子阱结构的周期数为K,K的范围是3~20,并且,本发明专利技术还公开了一种半导体激光器及其制作方法,该半导体激光器包括前述的有源区。本发明专利技术提供的半导体激光器具有更低的阈值电流,较高的特征温度,可实现无制冷工作;具有较高的微分增益,可提供TM模式激光输出;具有较大的导带带阶比,可同时实现对注入载流子进行有效的限制和载流子在阱间的均匀分布,提高激光器调制特性。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种激光器有源区,其特征在于:所述有源区包括一多量子阱结构,所述多量子阱结构中势阱层的材料为InGaAsP,所述量子阱结构中势垒层的材料为InGaAlAs,所述多量子阱结构的周期数为K,K的范围是3~20。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:曾徐路董建荣李奎龙孙玉润于淑珍赵勇明赵春雨
申请(专利权)人:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
类型:发明
国别省市:

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