一种GaN基发光二极管外延片用衬底制造技术

技术编号:9199483 阅读:261 留言:0更新日期:2013-09-26 03:26
本发明专利技术公开了一种GaN基发光二极管外延片用衬底,包括蓝宝石衬底层(1)、Buffer—缓冲层(2)、N型GaN层(3)、MQW发光层(5)以及P型GaN层(6),其特征在于:所述蓝宝石衬底层(1)为图形衬底,蓝宝石衬底层(1)上阵列式分布有多个图形凸起(11),图形凸起(11)上包覆有图形凸起掩膜,各图形凸起(11)之间的间隔为1μm,各图形凸起(11)竖截面与蓝宝石衬底层(1)接触长度为2μm,各图形凸起(11)的高度为1.6μm,该技术方案有效解决传统外延片抗静电能力差和发光效率低的问题。?

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种GaN基发光二极管外延片用衬底,包括蓝宝石衬底层(1)、Buffer—缓冲层(2)、N型GaN层(3)、MQW发光层(5)以及P型GaN层(6),其特征在于:所述蓝宝石衬底层(1)为图形衬底,蓝宝石衬底层(1)上阵列式分布有多个图形凸起(11),图形凸起(11)上包覆有图形凸起掩膜,各图形凸起(11)之间的间隔为1μm,各图形凸起(11)竖截面与蓝宝石衬底层(1)接触长度为2μm,各图形凸起(11)的高度为1.6μm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:芦玲张向飞钱仁海刘坚
申请(专利权)人:淮安澳洋顺昌光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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