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一种全反射X射线荧光光谱仪制造技术

技术编号:9197052 阅读:226 留言:0更新日期:2013-09-26 01:22
本发明专利技术提出了一种全反射X射线荧光光谱仪,包括:样品室,其包括用于盛放样品的样品台、样品定位装置和用于探测所述样品受X射线照射时产生的荧光的探测器;X射线管发生装置,用于发射X射线照射至所述样品,所述X射线入射至所述样品的入射角<0.1°;单色器装置,用于将所述X射线形成单色光;控制装置,用于接收所述探测器探测到的所述样品产生的荧光和分析所述样品中的元素及含量。本发明专利技术提出的一种全反射X荧光光谱仪,其以小于0.1°的角掠入射,整形成条状的原级束被全反射,用于微量样品和痕量元素化学分析。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种全反射X射线荧光光谱仪,其特征在于,包括:样品室:包括用于盛放样品的样品台、样品定位装置和用于探测所述样品受X射线照射时产生的荧光的探测器;X射线管发生装置:用于发射X射线照射至所述样品,所述X射线入射至所述样品的入射角<0.1°;单色器装置:用于将所述X射线形成单色光;控制装置:用于接收所述探测器探测到的所述样品产生的荧光和分析所述样品中的元素及含量。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:杨东华
申请(专利权)人:杨东华
类型:发明
国别省市:

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