一种基于薄膜标记层的多层膜结构的表征方法技术

本发明专利技术涉及一种基于薄膜标记层的多层膜结构的表征方法，在多层膜结构内特定位置插入合适材料的标记膜层，以在电镜测试过程中确定不同区域膜层的位置，从而利用高倍数电镜对多层膜膜系整体结构实现精确拼接和表征。与现有技术相比，本发明专利技术利用薄膜标记层的方法，克服了传统电镜在表征厚多层膜或非周期多层膜结构时，由于无法同时实现大视场和高分辨率，不同区域膜层拼接的位置误差对膜系整体结构测试造成的影响，是对多层膜结构进行纳米级精确表征的有效方法，为高精度多层膜元件的制作提供保证。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种基于薄膜标记层的多层膜结构的表征方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：(1)根据多层膜结构选择扫描电子显微镜或透射电子显微镜进行测试；(2)根据原多层膜结构的电镜图像，选择薄膜标记层的材料；(3)根据选择的薄膜标记层的材料确定薄膜标记层的厚度；(4)根据多层膜的膜层结构，确定薄膜标记层的插入位置；(5)制备目标多层膜结构，在多层膜中镀制薄膜标记层；(6)利用扫描电子显微镜或透射电子显微镜对多层膜截面不同区域进行分段观测，保证每2幅相邻区域的电镜图中都有1个相同的薄膜标记层，对测试图像进行像素读图，获得局部膜层厚度分布，再根据标记层对所有图像进行无缝拼接，以完成多层膜的膜系整体结构的表征。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：朱京涛，黄秋实，宋竹青，王占山，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：