【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种像素界定层,其特征在于,所述像素界定层为上部的亲性材料的含量小于下部亲性材料含量,上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:侯文军,刘则,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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