被镀层形成用组成物以及具有金属膜的积层体的制造方法技术

本发明专利技术的目的是提供一种可获得无电解镀敷时的镀敷速度提高、并且对基板的密接性进一步提高的金属膜的被镀层形成用组成物、及使用此组成物而实施的具有金属膜的积层体的制造方法被镀层。本发明专利技术的被镀层形成用组成物包含式(1)所示的化合物、及具有聚合性基的聚合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：塚本直树，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：
国别省市：