【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种在基板之上产生图案化的目标材料层的方法，包括以下步骤：在所述基板之上形成印刷图案化掩膜结构，使得所述掩膜结构的第一表面朝向所述基板定向并且所述掩膜结构的第二表面背离所述基板定向；利用充分的能量将所述目标材料的颗粒导向所述基板和所述掩膜结构，使得：????所述颗粒在所述第二表面处进入所述掩膜结构；????所述目标材料基本上不聚集在所述第二表面上；????所述目标材料作为目标材料层聚集在所述基板之上而不是聚集在所述掩膜结构之上；以及连同所述掩膜结构中的目标材料颗粒一起去除所述掩膜结构，使得所述基板之上而不是所述掩膜结构之上的所述目标材料层作为图案化层而保留。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：S林布，U斯里尼瓦桑，
申请(专利权)人：帕洛阿尔托研究中心公司，
类型：发明
国别省市：
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