一种抑制光学表面全频段误差的抛光磨盘制造技术

本发明专利技术为一种抑制光学表面全频段误差的抛光磨盘，具有一转轴连接端位于基底的外上部中心位置；一基底具有环状凸台位于侧壁的外侧，环状凸台上具有一组固接螺孔，一组固接螺孔中心对称于转轴连接端；一法兰环，为圆环柱体，且具有一组固接螺孔；一隔膜密封膜片，为上端开口的桶形结构；一磁流变橡皮泥置于由隔膜密封膜片的内壁、上表面和基底的底部形成的一密封空腔中，隔膜密封膜片的凸台通过法兰环和螺栓与基底的环形凸台固定连接；一抛光垫，与隔膜密封膜片的下表面固定连接；一磁场发生器，置于磨盘外基底的外上部的上表面，控制密封空腔中的磁场分布，磁场发生器产生平行于转轴方向的磁场，调节控制磁流变橡皮泥的储能模量和损耗模量。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种抑制光学表面全频段误差的抛光磨盘，其特征在于包括：一转轴连接端，位于基底的外上部中心位置，用于连接机床转轴，获得驱动力带动整个抛光磨盘旋转；一基底，具有一外上部、外下部、侧壁、固接螺孔和环状凸台；环状凸台位于侧壁的外侧，环状凸台上具有一组固接螺孔，一组固接螺孔中心对称于转轴连接端；一法兰环，为圆环柱体，且具有一组固接螺孔；一隔膜密封膜片，为上端开口的桶形结构，具有内壁、下表面、上表面、边缘设有凸台；一磁流变橡皮泥置于由隔膜密封膜片的内壁、上表面和基底的底部形成的一密封空腔中，隔膜密封膜片的凸台通过法兰环和螺栓与基底的环形凸台固定连接；一抛光垫，与隔膜密封膜片的下表面固定连接；一磁场发生器，置于磨盘基底的外上部的上表面，控制密封空腔中的磁场分布，磁场发生器产生平行于转轴方向的磁场，调节控制磁流变橡皮泥的储能模量和损耗模量。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王佳，范斌，万勇建，施春燕，孟凯，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：