光刻机产能监测系统技术方案

本发明专利技术涉及一种光刻机产能监测系统，包括：整合模块，用于读取光刻机的生产数据，并按晶圆编号与光刻机工艺单元编号进行归类，以输出一组整合数据；计算模块，用于根据整合数据计算第一时间段内光刻机的产能数据并输出；统计模块，用于根据产能数据统计第二时间段内光刻机的产能变化趋势；其中，第二时间段包括并长于第一时间段，生产数据至少包括晶圆到达每一工艺单元的时间与离开该工艺单元的时间。其可更精确地监测光刻机产能变化趋势、并分析研究不同工艺制程下的光刻机产能，以发现光刻机产能进一步提高的工艺瓶颈。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光刻机产能监测系统，用于监测至少一光刻机的产能变化情况，所述光刻机包括多个对晶圆进行加工处理的工艺单元，所述光刻机通过选用不同的工艺单元组合而形成不同的工艺制程，所述监测系统包括：整合模块，用于读取所述光刻机的生产数据，并按晶圆编号与光刻机工艺单元编号进行归类，以输出一组整合数据；计算模块，用于根据所述整合数据计算第一时间段内所述光刻机的产能数据并输出；统计模块，用于根据所述产能数据统计第二时间段内所述光刻机的产能变化趋势；其中，所述第二时间段包括并长于所述第一时间段，所述生产数据至少包括所述晶圆到达每一所述工艺单元的时间与离开该工艺单元的时间。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张杰，刘惠然，梁非，龚毅，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：