【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种曝光装置，包括：吸盘，支撑涂布有光阻剂的基板；光束照射装置，包含：调制光束的空间光调制器、基于描绘数据而驱动所述空间光调制器的驱动电路、及照射通过所述空间光调制器调制后的光束的照射光学系统；以及移动单元，使所述吸盘与所述光束照射装置相对性地移动；且通过所述移动单元使所述吸盘与所述光束照射装置相对性地移动，并通过来自所述光束照射装置的光束扫描所述基板而在所述基板上描绘图案；所述曝光装置的特征在于包括：测定工具，一面遮蔽从所述光束照射装置照射的光束的一部分，一面在从所述光束照射装置照射的光束的照射区域内移动；以及检测装置，接收从所述光束照射装置照射且由所述测定工具遮蔽一部分的光束，并检测所接收的光束整体的强度；且根据由所述检测装置接收的光束整体的强度的伴随着所述测定工具的移动的变化，而检测通过所述测定工具遮蔽的光束的强度与所述测定工具的位置，从而检测光束的强度分布，并基于检测结果来修正光束的强度分布的不均。
【技术特征摘要】
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