【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种光刻系统，包括：光刻曝光工具，被设计成用于对涂布在集成电路衬底上的辐射敏感材料层执行曝光工艺；对准模块，与所述光刻曝光工具相连接，被设计用于对准测量，并且被配置用于将所述集成电路衬底传送至所述光刻曝光工具；以及对准校准模块，被设计成相对于所述光刻曝光工具校准所述对准模块。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：陈立锐，梁辅杰，吴雪鸿，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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