一种基于光场选择的合成孔径显微方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种基于光场选择的合成孔径显微方法，包括以下步骤：1）探测光经扩束偏折处理后照射到样品上，利用显微成像系统收集透过样品的透射光；2）参考光经扩束偏折处理后与显微成像系统收集的透射光合束并统一偏振，再通过图像传感器记录两束光的干涉图样；3）改变探测光照射到样品的角度，重复步骤1）和步骤2），得到与多个角度对应的多张干涉图样；4）利用傅里叶变换的方法得到每张干涉图样的相位分布，再通过randon算法重构得到显微图像。本发明专利技术还公开了一种基于光场选择的合成孔径显微装置。本发明专利技术加入光场选择的方法有效的增加了显微镜的合成孔径，并提高了横向分辨率和纵向分辨率，实现了超分辨的效果。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种基于光场选择的合成孔径显微方法，其特征在于，包括以下步骤：1）探测光经扩束偏折处理后照射到样品上，利用显微成像系统收集透过样品的透射光；2）参考光经扩束偏折处理后与显微成像系统收集的透射光合束并统一偏振，再通过图像传感器记录两束光的干涉图样；3）改变探测光照射到样品的角度，重复步骤1）和步骤2），得到与多个角度对应的多张干涉图样；4）利用傅里叶变换的方法得到每张干涉图样的相位分布，再通过randon算法重构得到显微图像。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：匡翠方，修鹏，葛剑虹，刘旭，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：