当前位置: 首页 > 专利查询>丁雪强专利>正文

一种适于防止滑块撞击后反弹的缓冲器制造技术

技术编号:9140315 阅读:119 留言:0更新日期:2013-09-12 02:36
本发明专利技术涉及一种适于防止滑块撞击后反弹的缓冲器,包括:缸体,在该缸体的开口端密封设有缸盖并将开口封闭,缸盖的中心轴线处设有中心通孔;由一活塞杆穿过该中心通孔,且该活塞杆顶端设有活塞体组件;在缓冲工作时,缸体的右端面作为与滑块相碰撞的接触面;缸体的侧壁中轴向设有电磁铁,活塞体组件右端面上设有用于检测介质压力的压力传感器,该压力传感器与一处理器模块相连;当滑块撞击所述缸体的右端面时,处理器模块适于根据介质压力值,控制一电流驱动模块输出与该介质压力值相匹配的电流,使电磁铁产生相应的磁场,以吸合所述滑块;直至处理器模块测得介质压力值为均衡值时,控制电流驱动模块关闭输出电流,以释放滑块。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种适于防止滑块撞击后反弹的缓冲器,其特征在于包括:呈圆柱形,且用于填充缓冲介质的缸体,在该缸体的开口端密封设有缸盖,所述缸盖的中心通孔中密封活动配合有一活塞杆,该活塞杆的右端设有活塞体组件,该活塞体组件适于在所述缸体内作活塞运动;在缓冲工作时,所述缸体的右端面作为与滑块相碰撞的接触面,该右端面上铺设有用于缓冲滑块撞击的缓冲垫;所述缸体的侧壁中轴向设有电磁铁,所述活塞体组件的右端面上设有用于检测介质压力的压力传感器,该压力传感器与一处理器模块相连;当所述滑块撞击所述缸体的右端面时,所述处理器模块适于根据介质压力值,控制一电流驱动模块输出与该介质压力值相匹配的电流,使所述电磁铁产生相应的磁场,以吸合所述滑块;直至所述处理器模块测得介质压力值为均衡值时,控制所述电流驱动模块关闭输出电流,使所述磁场消失,以释放所述滑块。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴正明
申请(专利权)人:丁雪强
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1