【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种复合式靶材制作方法，其特征在于，根据废靶材的蚀刻状态而制作复合式靶材，且该废靶材是通过存在有第一磁力线分布的溅射机台对至少具有基板层与金属层的原始靶材进行溅射作用之后的产生物，其包含：判断该废靶材受到该第一磁力线分布所产生的该蚀刻状态，以决定第二磁力线分布，其中该第二磁力线分布用于调整该复合式靶材设置于该溅射机台时所承受的该第一磁力线分布；在该原始靶材的该基板层上设置对应于该第二磁力线分布的磁性层；在该磁性层与该基板层的上方设置金属层；以及在该基板层、该磁性层与该金属层之间设置接合层，以结合该基板层、该磁性层与该金属层而形成该复合式靶材；其中当该复合式靶材进行该溅射作用时，具有该第二磁力线分布的该复合式靶材将在该复合式靶材作用的该第一磁力线分布调整为第三磁力线分布。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：杨清河，吴智稳，苏梦鹏，翁基祥，孙璿程，
申请(专利权)人：住华科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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