日光温室二次闷棚处理技术制造技术

一种日光温室二次闷棚处理技术，其特点包括，清洁温室；烟火闷棚，每百平方米放置一个50-70公斤的干草堆，在每个干草堆上覆盖5-10厘米厚的干锯末，再撒放0.5公斤硫磺粉，然后点燃干草堆，关闭温室7-10天；发酵翻耕，烟火闷棚后每百平方撒放1立方新鲜鸡粪，并深耕地25厘米以上；覆膜闷棚，调节土壤含水量60％左右，将地面用地膜严密覆盖，封闭温室15-20天。它解决了日光温室土壤传播病害和地下害虫发生量大，影响蔬菜产量和品质的问题，广泛适应各类日光温室使用。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种日光温室二次闷棚处理技术，其特征包括：清洁温室、烟火闷棚、发酵翻耕、覆膜闷棚；清洁温室，将温室内的残枝、落叶、果实等杂物清理除去，使室内净洁；烟火闷棚，先将室内轻浇一次水，再按每百平方米放置一个50?70公斤的干草堆，在每个干草堆上覆盖5?10厘米厚的干锯末，在干锯末上撒放0.5公斤硫磺粉，然后点燃干草堆，关闭温室7?10天；发酵翻耕，烟火闷棚后每百平方撒放1立方新鲜鸡粪，并迅速深耕地25厘米以上；覆膜闷棚，调节土壤含水量60％左右，将地面用地膜严密覆盖，封闭温室15?20天。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郝建朋，
申请(专利权)人：郝建朋，
类型：发明
国别省市：