液浸构件、浸没曝光装置、曝光方法、组件制造方法、程序、及储存媒体制造方法及图纸

液浸构件，在浸没曝光装置内，布置在通过光学构件、及光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路周围的至少一部分。液浸构件，具备：第一液浸构件，布置在光路周围的至少一部分，以用第一液体充满光学构件与物体之间的曝光用光的光路的方式在光学构件的射出面侧形成第一液体的第一浸没空间；引导部，将第一浸没空间的第一液体的至少一部分引导至光路周围的一部分即第一引导空间；以及第二液浸构件，相对光路布置在第一液浸构件的外侧，在第一浸没空间周围的一部分与第一引导空间相邻地形成第二液体的第二浸没空间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤真路，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：
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