本发明专利技术公开超疏水性膜(200、400)。更具体地讲,公开耐久性超疏水性膜(200、400),所述超疏水性膜具有由凹部(208、408)间隔开来的离散平面(206、406),其中所述凹部和平面被纳米结构或纳米粒子(424)覆盖。还公开制备所述膜的各种方法。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:张俊颖,T·L·史密斯,K·A·布朗,V·W·琼斯,D·K·塞勒,T·J·赫布林克,王庆兵,K·金达尔,郝恩才,
申请(专利权)人:三M创新有限公司,
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