输送系统的输送位置对准方法技术方案

一种输送系统的输送位置对准方法，其特征在于，　　　　该输送系统具有：　　　　至少具有１个保持被输送物的拾取器件的第一输送机构；　　　　至少具有１个保持被输送物的拾取器件的第二输送机构；　　　　多个装置，可由所述第一和第二输送机构中的至少一个进出，在与进出的输送机构的拾取器件之间进行被输送物的交接；　　　　检测出载置的被输送物的中心位置的位置偏差量，可由所述第一输送机构进出的、作为所述多个装置之一的位置对准装置；　　　　可由所述第一及第二输送机构进出，而且，在所述第一及第二输送机构之间进行被输送物的交接时，暂时地保持该被输送物的、作为所述多个装置之一的第一中继装置；和　　　　可由所述第一及第二输送机构进出，而且，在所述第一及第二输送机构之间进行被输送物的交接时，暂时地保持该被输送物的、作为所述多个装置之一的第二中继装置，　　　　该输送位置对准方法包括：　　　　以粗的精度临时决定定义所述各输送机构的各拾取器件对所述多个装置的各个的进出点的输送位置坐标的临时决定工序；　　　　确定所述第一输送机构的各拾取器件对所述位置对准装置的输送位置坐标的第一确定工序；　　　　确定所述各输送机构的各拾取器件对所述位置对准装置以外的装置的输送位置坐标内的一部分的输送位置坐标的第二确定工序；　　　　将位置对准用被输送物，路经通过在所述临时决定工序中被临时决定的未确定的输送位置坐标中的１个的输送路径，输送到所述位置对准装置，求出保持在所述位置对准装置上的位置对准用被输送物的位置偏差量，根据该位置偏差量修正所述输送位置坐标中的１个，然后确定该修正过的输送位置坐标作为确定的输送位置坐标的第三确定工序；和　　　　在所述临时决定工序中被临时决定的未确定的输送位置坐标全部被确定之前，反复进行所述第三确定工序的第四确定工序。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】输送系统的输送位置对准方法
本专利技术是关于用来输送半导体晶片等的被处理体的输送系统的位置对准方法。
技术介绍
一般，为了制造半导体集成电路，就要对半导体晶片进行成膜、蚀刻、氧化、扩散等各种处理。随着近年来的半导体集成电路的微细化以及高集成化，生产能力和成品率的要求提高了。为了达到这样的要求，在日本专利公报JP2000-208589A中公开了，进行同一处理的多个处理装置或者进行不同处理的多个处理装置，通过共用的输送室，相互结合，不把晶片暴露在大气中，就能够连续地对晶片进行不同处理的、所谓的集束化处理系统。对于这种处理系统，晶片按如下步骤进行操作。首先，晶片由第一输送机构从在处理系统的前段所设有的导入口处设置的盒式容器中取出，然后送入处理系统的导入侧输送室内。在位置对准机构位置对准后，晶片被送入可抽真空的负载锁定室内。接着，晶片用第二输送机构，输送到多个真空处理装置连接在周围的真空环境的共用输送室。把共用输送室作为中心，对各真空处理装置，顺次导入晶片，进行连续处理。处理过的晶片按照搬入时的路径逆序地返回，收容到原盒式容器中。这种处理系统，内部具有单个或多个输送机构，晶片的交接和输送通过这些输送机构能够自动地进行。这些输送机构，具有曲伸、转动以及升降自由的1个或者2个拾取器件。拾取器件直接保持晶片并水平移动，把晶片输送到规定位置。在输送机构运行时，必须避免拾取器件及被拾取器件保持的晶片与其他部件干扰或冲突。不仅这样，拾取器件把放置在某场所的晶片适当取出，把该晶片输送到目的场所，在该目的场所，有必要以精度良好例如±0.20mm以内的位置精度来进行晶片的交接。-->因此，在进行装置的组装和大的装置改造等时，将在输送机构拾取器件的移动路径上进行晶片W交接的场所等重要位置，作为输送位置坐标，完全存储在由控制该输送机构的动作的计算机等组成的控制器中，能够进行所谓的训练作业。该训练是涉及拾取器件的所有进出点(例如，拾取器对盒式容器、负载锁定室的载置台、位置对准装置以及各真空处理装置的基座的进出点)而对每个拾取器件进行。定义这些进出点的输送位置坐标存储在控制器。还有，输送装置的驱动系统中，装入用于确定拾取器件位置的编码器。驱动系统具有作为驱动源的脉冲电动机，根据编码器的检出结果，控制付与该脉冲电动机上的脉冲数，由此能够精密地控制拾取器件位置。在集束化处理系统中的输送系统的训练方法，公开在日本专利公开公报JP2000-127069A中。在训练中，使用与应该输送的半导体晶片相同直径、近似同一厚度的由透明板组成的模拟基板。在该模拟基板上，在拾取器件应该保持的适当位置上，显示有与拾取器件的轮廓相当的标记。该标记如果与拾取器件的轮廓一致，模拟基板能够保持在拾取器件上的适当的位置。训练按照以下顺序进行。首先，在进行精度高的训练之前，用预先“粗精度”暂时决定输送位置坐标。所谓的“粗精度”是根据该被临时决定的输送位置坐标，即使自动输送晶片，晶片也不与室的内壁等部件发生冲突这样程度的精度，对最终被确定的输送位置坐标包括例如±2mm左右的误差。其次，将模拟基板一边人工进行位置对准调整到负载锁定室内的载置台上、真空处理室的基座上等的输送位置，一边以高位置精度载置到适当的位置。而且，该模拟基板，由拾取器件取出，输送到作为定位机构的定位仪上，用该定位仪检验出位置偏差量。根据该位置偏差量，修正被临时决定的输送位置坐标，把修正后的输送位置坐标，作为确定的输送位置坐标存储在控制器上。上述的训练操作，对拾取器件的所有进出点对每个拾取器件都进行。关于上述的训练方法，在各拾取器件的所有进出场所中，由于通过手动，操作员必须通过目视注意高精度地进行位置对准。因此，存在不仅在训练中需要长时间，而且对操作员来说具有大的负担这样的问题。-->另外，也存在这样的问题，对拾取器件进出的场所，而且对每个拾取器进行手动位置对准的结果，在将从盒式容器中取出的晶片输送到处理装置的基座上的时，在晶片通过的输送路径上，载置到基座上的晶片位置大致不同。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的就是提供输送系统的位置对准的方法，能够通过人工位置对准工序的削减来减轻操作员的负担，能够迅速进行训练，而且能够将被输送物以高精度，载置到与被输送物通过的路径无关的最终目的输送场所的同一位置。为了达到该目的，本专利技术提供输送系统的输送位置对准的方法，该输送系统具有：第一输送机构，至少含有1个保持被输送物的拾取器件；第二输送机构，至少含有1个保持被输送物的拾取器件；多个装置，由上述第一和第二输送机构中的至少一方可进出，与能够进出的输送机构的拾取器件之间进行被输送物的交接；位置对准装置，检测出载置的被输送物的中心位置的位置偏差量，是通过该第一输送机构可进出的、上述多个装置中的1个；第一中继装置，可由上述第一及第二输送机构进出，而且，在上述第一及第二输送机构之间进行被输送物的交接时，暂时地保持该被输送物，是上述多个装置中的1个；和第二中继装置，可由上述第一及第二输送机构进出，而且，在上述第一及第二输送机构之间进行被输送物的交接时，暂时地保持该被输送物，是上述多个装置中的1个。该方法具有：临时决定工序，以粗的精度临时决定定义上述各输送机构的各拾取器件对上述多个装置的各个的进出点的输送位置坐标；第一确定工序，确定上述第一输送机构的各拾取器件对上述位置对准装置的输送位置坐标；第二确定工序，确定上述各输送机构的各拾取器件对上述位置对准装置以外的装置的输送位置坐标内的一部分输送位置坐标；第三确定工序，路经通过在上述临时决定工序中被临时决定的未确定的输送位置坐标中的1个的输送路径，将位置对准用被输送物，输送到上述位置对准装置，求出保持在上述位置对准装置的位置对准用被输送物的位置偏差量，根据该偏差量修正上述输送位置坐标中的1个，然后将该被修正的输送位-->置坐标确定作为确定的输送位置坐标；和第四确定工序，在临时决定工序中被临时决定的未确定的输送位置坐标全部被确定之前，反复进行上述第三确定工序。如上，能够在第三及第四工序中，自动地一个一个顺次确定输送位置坐标，所以能够削减操作员的手工控制工时数。另外，即使第二输送机构不能直接进出位置对准装置时，也可以利用涉及第一输送机构的被确定的输送位置坐标，来间接确定涉及第二输送机构的输送位置坐标。在典型的实施方式中，上述第一输送机构、上述第二输送机构以及上述中继装置，各自应为例如在集束系统中的大气输送室中设置的输送机构、在真空共用输送室中设置的输送机构以及在两输送室间设置的负载锁定室。关于本专利技术适当的一个方式，通过1个上述被临时决定的未确定的输送位置坐标的上述输送路径、由以下3个路径部分组成：用上述第一输送机构的某1个拾取器件，从上述位置对准装置将上述位置对准用被输送物输送到上述第一中继装置上的路径部分；用上述第二输送机构中的某1个拾取器件，从上述第一中继装置将上述位置对准用被输送物输送到上述第二中继装置上的路径部分；用上述第一输送机构的某1个拾取器件，从上述第二中继装置将上述位置对准用被输送物输送到上述位置对准装置上的路径部分。如上，沿着经由位置对准机构、第一中继装置及第二中继装置的循环路径输送被输送物，根据此输送结果，顺次确定输送位置坐标，因此，无论是被输送物通过第一输送机构输送本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种输送系统的输送位置对准方法，其特征在于，该输送系统具有：至少具有1个保持被输送物的拾取器件的第一输送机构；至少具有1个保持被输送物的拾取器件的第二输送机构；多个装置，可由所述第一和第二输送机构中的至少一个进出，在与进出的输送机构的拾取器件之间进行被输送物的交接；检测出载置的被输送物的中心位置的位置偏差量，可由所述第一输送机构进出的、作为所述多个装置之一的位置对准装置；可由所述第一及第二输送机构进出，而且，在所述第一及第二输送机构之间进行被输送物的交接时，暂时地保持该被输送物的、作为所述多个装置之一的第一中继装置；和可由所述第一及第二输送机构进出，而且，在所述第一及第二输送机构之间进行被输送物的交接时，暂时地保持该被输送物的、作为所述多个装置之一的第二中继装置，该输送位置对准方法包括：以粗的精度临时决定定义所述各输送机构的各拾取器件对所述多个装置的各个的进出点的输送位置坐标的临时决定工序；确定所述第一输送机构的各拾取器件对所述位置对准装置的输送位置坐标的第一确定工序；确定所述各输送机构的各拾取器件对所述位置对准装置以外的装置的输送位置坐标内的一部分的输送位置坐标的第二确定工序；将位置对准用被输送物，路经通过在所述临时决定工序中被临时决定的未确定的输送位置坐标中的1个的输送路径，输送到所述位置对准装置，求出保持在所述位置对准装置上的位置对准用被输送物的位置偏差量，根据该位置偏差量修正所述输送位置坐标中的1个，然后确定该修正过的输送位置坐标作为确定的输送位置坐标的第三确定工序；和在所述临时决定工序中被临时决定的未确定的输送位置坐标全部被确定之前，反复进行所述第三确定工序的第四确定工序。2.如权利要求1所述的输送位置对准方法，其特征在于，通过1个所述被临时决定的未确定的输送位置坐标的所述输送路径包括以下几部分：用所述第一输送机构的某1个拾取器件，将所述位置对准用被输送物从所述位置对准装置输送到所述第一中继装置上的路径部分；用所述第二输送机构的某1个拾取器件，将所述位置对准用被输送物从所述第一中继装置输送到所述第二中继装置上的路径部分；和用所述第一输送机构的某1个拾取器件，将所述位置对准用被输送物从所述第二中继装置输送到所述位置对准装置上的路径部分。3.如权利要求1所述输送位置对准方法，其特征在于，在通过1个所述被临时决定的未确定的输送位置坐标的所述输送路径，在沿着该输送路径开始输送时，在包含在该输送路径中的多个输送位置坐标中仅有1个输送位置坐标未确定，其他的输送位置坐标全部被确定。4.如权利要求1所述输送位置对准方法，其特征在于，在所述多个装置中，包括由在所述第二输送机构能够进出的位置处配置的用于处理被输送物的处理装置，而且，所述第二输送机构具有2个拾取器件，所述输送位置对准方法还包括以下几个工序：在所述第二输送机构的2个拾取器件对所述第一及第二中继装置的至少一方的输送位置坐标、以及所述第一输送机构的至少1个拾取器件对该中继装置的输送位置坐标确定后，根据所...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊谷元宏，近藤圭祐，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：